Skip to main content
Login | Suomeksi | På svenska | In English

Photocatalytic properties of inorganic composites and their fabrication to thin films

Show full item record

Title: Photocatalytic properties of inorganic composites and their fabrication to thin films
Author(s): Granbohm, Henrika
Contributor: University of Helsinki, Faculty of Science, Department of Chemistry
Discipline: Inorganic Chemistry
Language: English
Acceptance year: 2014
Abstract:
Plasmonic photocatalysts are emerging as a new group of photocatalysts with both UV and visible light activation, and show promising uses in wastewater treatment, water splitting and CO2 reduction by using sunlight. Plasmonic photocatalysts consist of noble metal nanoparticles dispersed onto a semiconductor photocatalyst and have two outstanding features: a Schottky junction and localised surface plasmonic resonance. By tailoring the size and shape of the noble metals and carefully choosing the right structure and composition of the photocatalyst material, it is possible to achieve enhanced photocatalytic efficiency and response to visible light. The aim of the experimental part in this work was to synthesise inorganic composite powders of GO/TiO2/Ag/AgCl and GO/SiO2/Ag/AgCl (GO, graphene oxide) and investigate their photocatalytic properties. Different synthesis parameters were modified during preparation of the composites. The loading of GO in GO/SiO2/Ag/AgCl composite and the reduction of silver ions by polyvinylpyrrolidone (PVP) in the synthesis of GO/TiO2/Ag/AgCl were examined. The photocatalytic activity was investigated by degradation of methylene blue (MB) for all composite powders and compared to a reference material (TiO2, Degussa P25). Thin films of selected GO/SiO2/Ag/AgCl compositions were prepared by dip coating. The photocatalytic measurements showed that the MB degradation rate of GO/SiO2/Ag/AgCl with 50 wt.% GO loading was comparable to Degussa P25. GO/TiO2/Ag/AgCl composites prepared using 2.5 ml and 0 ml of PVP during preparation showed superior MB degradation rates compared to Degussa P25. Preliminary depositions of GO/SiO2/Ag/AgCl thin films on glass substrates were rough, with a thickness up to 600 nm. Further research is required for thin film deposition on Si-substrates.
Plasmonsika fotokatalyter är en uppkommande ny grupp av fotokatalytiska material med aktivering inom både UV och synliga ljusområdet. Plasmoniska fotokatalyter har visat lovande användningar inom rening av avloppsvatten, splittning av vatten och reduktion av koldioxid under solljus. Plasmoniska fotokatalyter består av nanopartiklar av ädla metaller spridda över en halvledarfotokatalyt. Dessa har två framstående egenskaper, nämligen en Schottky förbindelse och lokaliserad ytplasmonresonans. Genom att anpassa storleken och formen på den ädla metallen, samt noggrant välja den rätta strukturen och kompositionen på fotokatalytmaterialet är det möjligt att åstadkomma en bättre fotokatalytisk effektivitet och respons under synligt ljus. Syftet för den experimentella delen i detta arbete var att framställa oorganiska kompositer av GO/TiO2/Ag/AgCl och GO/SiO2/Ag/AgCl (GO, grafenoxid) och undersöka deras fotokatalytiska egenskaper. Olika variabler modifierades under framställningen av kompositerna. Mängden GO i GO/SiO2/Ag/AgCl kompositen och reduktionen av silverjoner med polyvinylpyrrolidon (PVP) i syntesen för GO/TiO2/Ag/AgCl inspekterades. Fotokatalytiska aktiviteten undersöktes genom nedbrytning av metylenblått (MB) för alla kompositpulver och jämfördes med ett referensmaterial (TiO2, Degussa P25). Tunnfilmer av utvalda GO/SiO2/Ag/AgCl sammansättningar förbereddes med doppbeläggning (dip coating). Fotokatalytiska mätningarna visade att nedbrytningshastigheten för MB gällande GO/SiO2/Ag/AgCl med 50 vikt% GO var jämförbar med Degussa P25. GO/TiO2/Ag/AgCl som tillreddes med 2,5 ml och 0 ml PVP under syntesskedet visade en förbättrad MB nedbrytningshastighet jämfört med Degussa P25. De preliminära deponeringarna av tunnfilmer av GO/SiO2/Ag/AgCl på glassubstrat var ojämna med tjocklekar upp till 600 nm. Ytterligare forskning krävs för deponering av tunnfilmer på Si-substrat.


Files in this item

Files Size Format View
GranbohmProGradu.pdf 11.18Mb PDF

This item appears in the following Collection(s)

Show full item record