Ex Situ In Vacuo and In Situ Studies on Mechanisms of ALD Processes
Title: | Ex Situ In Vacuo and In Situ Studies on Mechanisms of ALD Processes |
Author(s): | Kaipio, Mikko Ari Ilmari |
Contributor: | University of Helsinki, Faculty of Science, Department of Chemistry |
Discipline: | Inorganic Chemistry |
Language: | English |
Acceptance year: | 2014 |
Abstract: |
This master's thesis consists of two parts related to atomic layer deposition (ALD) processes: a literature survey of so-called ex situ in vacuo analysis methods used in investigations of the ALD chemistry and a summary of the work performed by the author using in situ methods.
The first part of the thesis is divided into four sections. In the first two sections ALD as a thin film deposition method is introduced, and in situ and ex situ in vacuo publications related to ALD are summarized. The third section is a general overview of ex situ in vacuo analysis methods, and the final section a literature review covering publications where ex situ in vacuo techniques have been employed in studying ALD processes, with a strong emphasis on analysis methods which are based on the use of x-rays.
The second part of the thesis consists of in situ quartz crystal microbalance and quadrupole mass spectrometry studies of the V(NEtMe)4/D2O, V(NEtMe)4/O3, Mg(thd)2/TiF4 and Cu2(CH3COO)4/D2O ALD processes. The experimental apparatus and related theory are given a brief overview, followed by a presentation and discussion of the results.
Tämä pro gradu –tutkielma koostuu kahdesta osasta: atomikerroskasvatus(ALD)prosessien tutkimisessa käytettyjen niin sanottujen ex situ in vacuo –analyysimenetelmien kirjallisuuskatsauksesta, sekä kirjoittajan itse tekemistä in situ –tutkimuksista.
Tutkielman ensimmäinen osa on jaettu neljään osioon. Näistä kahdessa ensimmäisessä esitellään ALD ohutkalvojen kasvatusmenetelmänä ja tiivistetään ALD-prosessien ex situ in vacuo –tutkimukset. Kolmas osio on yleiskatsaus erilaisista ex situ in vacuo –menetelmistä ja viimeinen osio kirjallisuuskatsaus, joka kattaa sellaiset julkaisut, missä ex situ in vacuo –menetelmiä on käytetty ALD-prosessien tutkimisessa. Katsauksessa painotutaan erityisesti röntgensäteitä käyttäviin analyysimenetelmiin.
Tutkielman toinen osa koostuu seuraavien ALD prosessien in situ kvartsikidevaaka ja kvadrupolimassaspektrometritutkimuksista: V(NEtMe)4/D2O, V(NEtMe)4/O3, Mg(thd)2/TiF4 ja Cu2(CH3COO)4/D2O. Aluksi annetaan yleiskatsaus käytetystä laitteistosta ja siihen liittyvästä teoriasta, minkä jälkeen esitellään tutkimusten tulokset.
|
Files in this item
Files | Size | Format | View |
---|---|---|---|
kaipio_gradu_e-thesis.pdf | 4.330Mb |
This item appears in the following Collection(s)
-
Faculty of Science [4247]